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該材料具有優(yōu)異的真空開(kāi)斷和耐壓能力。廣泛應(yīng)用于126kV及以下等級(jí)真空斷路器用真空滅弧室觸頭材料，是目前用于真空滅弧的主要觸頭材料。公司目前建成真空熔滲、真空熔鑄、真空自耗電弧熔煉三條生產(chǎn)線，有各類(lèi)真空燒結(jié)、真空熔鑄、真空自耗熔煉爐設(shè)備100多臺(tái)，具備年產(chǎn)400萬(wàn)對(duì)各種規(guī)格觸頭材料的能力，是目前全世界**主要的真空觸頭材料制造基地。
| 產(chǎn)品名稱(chēng) Name | 代表符號(hào) Symbol |
化學(xué)成分( wt% ) Chemical Compositions(wt%) |
物理機(jī)械性能 Physical Mechanical Performance |
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| Cr | Cu |
氣體含量 GasContent |
硬度 Hardness HB (Mpa) |
密度 Density (g/cm3) |
電導(dǎo)率ElectrucalConductivity (Ms/m) |
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| 氧含量Oxygen | 氮含量Nitrogen | |||||||
| 銅鉻 （50） | CuCr50F | 47.0-52.0 | 余量 | ＜0.050 | ＜0.004 | 80-120 | ≥7.90 | ≥16.0 |
| 產(chǎn)品名稱(chēng)Name |
代表符號(hào) Symbol |
化學(xué)成分( wt% ) Chemical Compositions(wt%) |
物理機(jī)械性能 Physical Mechanical Performance |
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| Cr | Cu |
氣體含量 GasContent |
硬度Hardness HB (Mpa) |
密度Density (g/cm3) |
電導(dǎo)率ElectrucalConductivity (Ms/m) |
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| 氧含量Oxygen | 氮含量Nitrogen | |||||||
| 銅鉻（10） | CuCr10T | 7.00-12.0 | 余量 | ＜0.080 | ＜0.0030 | 70-100 | ≥8.60 | ≥40.0 |
| 產(chǎn)品名稱(chēng)Name |
代表符號(hào) Symbol |
化學(xué)成分( wt% ) Chemical Compositions(wt%) |
物理機(jī)械性能 Physical Mechanical Performance |
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| Cr | Cu |
氣體含量 GasContent |
硬度Hardness HB (Mpa) |
密度Density (g/cm3) |
電導(dǎo)率ElectrucalConductivity (Ms/m) |
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| 氧含量Oxygen | 氮含量Nitrogen | |||||||
| 銅鉻（25） | CuCr25T | 24.0-28.0 | 余量 | ＜0.080 | ＜0.0050 | 70-105 | ≥8.30 | ≥28.0 |
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